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芯片制造“地基”——12英寸硅片已成電子級硅片市場主流產(chǎn)品 業(yè)內(nèi)國產(chǎn)廠商仍需成長

前言:12英寸硅片是一種半導體硅片。硅片是芯片制造“地基”,是晶圓制造耗用最大的材料。近年隨著數(shù)字經(jīng)濟的快速發(fā)展以及新技術的推出,12英寸硅片已成為電子級硅片市場主流產(chǎn)品,且出貨面積占比持續(xù)增大。目前在全球市場上,日本信越化學、日本SUMCO等因率先掌握先進技術和具有產(chǎn)能優(yōu)勢占據(jù)著絕大部分的全球市場份額,且已形成良好的規(guī)模效應,在技術、價格、產(chǎn)品豐富度等方面具有很強的競爭力。而我國大陸企業(yè)起步晚、技術積累較少,整體規(guī)模偏小,后發(fā)劣勢短期內(nèi)無法改變,面臨較強的市場競爭。因此在目前全球貿(mào)易摩擦加劇的背景下,國產(chǎn)供應商仍需成長。

、硅片是芯片制造“地基”,市場占比30%

根據(jù)觀研報告網(wǎng)發(fā)布的《中國12英寸硅片行業(yè)發(fā)展趨勢研究與未來投資預測報告(2024-2031年)》顯示,半導體硅片是半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游,是制作芯片的核心材料,貫穿了芯片制作的全過程??梢哉f,半導體硅片是芯片制造“地基”,其純凈度、表面平整度、清潔度和雜質(zhì)污染程度不僅影響芯片制造的發(fā)展,同時也制約下游終端領域行業(yè)的發(fā)展。

半導體硅片是半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游,是制作芯片的核心材料,貫穿了芯片制作的全過程??梢哉f,半導體硅片是芯片制造“地基”,其純凈度、表面平整度、清潔度和雜質(zhì)污染程度不僅影響芯片制造的發(fā)展,同時也制約下游終端領域行業(yè)的發(fā)展。

資料來源:西安奕材招股說明書,觀研天下整理

目前全球95%以上的半導體器件采用硅片作為襯底,占半導體器件80%的集成電路產(chǎn)品中99%以上采用硅片作為襯底。有數(shù)據(jù)顯示,2023年九大類晶圓制造材料市場規(guī)模為415億美元。其中硅片市場規(guī)模達到124億美元,占比30%,是晶圓制造耗用最大的材料。

目前全球95%以上的半導體器件采用硅片作為襯底,占半導體器件80%的集成電路產(chǎn)品中99%以上采用硅片作為襯底。有數(shù)據(jù)顯示,2023年九大類晶圓制造材料市場規(guī)模為415億美元。其中硅片市場規(guī)模達到124億美元,占比30%,是晶圓制造耗用最大的材料。

數(shù)據(jù)來源:SEMI,觀研天下整理

數(shù)據(jù)來源:SEMI,觀研天下整理

數(shù)據(jù)來源:SEMI,觀研天下整理

、12英寸硅片已成電子級硅片市場主流產(chǎn)品,其中P型硅片占比超90%

12英寸大硅片優(yōu)勢凸顯,行業(yè)前景非常廣闊。電子級硅片按直徑大小可分為6英寸及以下、8英寸和12英寸三類規(guī)格。一般來講,硅片面積越大,生產(chǎn)的芯片數(shù)量越多,硅片邊緣浪費面積越小,單位芯片的成本越低。雖然對比8英寸來說,12英寸硅片的理論面積是8英寸的2.25倍,相同工藝條件下的可使用率(單位硅片可生產(chǎn)的芯片數(shù)量)約為8英寸硅片的2.5倍。這意味著在相同的面積下,12英寸大硅片可以制造更多的芯片,從而提高了生產(chǎn)效率。此外12英寸的每片單價遠高于8英寸硅片單價的2.25倍,在相同的價格下,12英寸大硅片可以提供更高的性能。因此可見,目前12英寸大硅片優(yōu)勢凸顯。預計隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等技術的快速發(fā)展,對高性能芯片的需求不斷增加,12英寸大硅片行業(yè)的前景非常廣闊。

近年來12英寸硅片行業(yè)不斷發(fā)展,到目前已成為全球電子級硅片市場上主流產(chǎn)品,且出貨面積占比持續(xù)增大。數(shù)據(jù)顯示,2017-2023年全球12英寸硅片的出貨面積占比從63.83%增長至73.02%,已成為市場絕對主流。

近年來12英寸硅片行業(yè)不斷發(fā)展,到目前已成為全球電子級硅片市場上主流產(chǎn)品,且出貨面積占比持續(xù)增大。數(shù)據(jù)顯示,2017-2023年全球12英寸硅片的出貨面積占比從63.83%增長至73.02%,已成為市場絕對主流。

數(shù)據(jù)來源:SEMI,觀研天下整理

P型硅片是主要產(chǎn)品,占比超過90%。根據(jù)摻雜劑種類的不同,12英寸硅片進一步細分為P型和N型;根據(jù)摻雜濃度的不同,不同類別又可進一步分為輕摻和重摻。鑒于邏輯和存儲芯片主要采用12英寸晶圓產(chǎn)能制造,參考上表產(chǎn)品應用場景,P型硅片全球12英寸硅片市場占比超過90%。

不同類型硅片對應的具體應用場景如下

硅片類型

主要應用場景

P

拋光片

輕摻

存儲芯片(DRAM、NANDFlash、部分制程NorFlash)、CIS芯片中邏輯晶圓、模擬芯片(部分制程顯示驅(qū)動芯片、電源管理芯片等)

外延片

輕摻

邏輯芯片、存儲芯片(部分制程NorFlash)、模擬芯片(部分制程顯示驅(qū)動芯片等)

重摻

CIS芯片中像素傳感器晶圓等

N

拋光片

輕摻

功率器件(IGBT

輕摻

功率器件(MOSFET

外延片

重摻

資料來源:公開資料,觀研天下整理

預計未來全球12英寸硅片出貨面積占比將進一步提升,規(guī)模不斷增長,主要基于以下兩大原因:

一方面數(shù)字經(jīng)濟的快速發(fā)展要求芯片具有更強的算力、更快的數(shù)據(jù)傳輸速度和更大的數(shù)據(jù)存儲能力,從而帶動12英寸硅片市場需求。目前技術迭代最快、制程最先進的邏輯和存儲芯片均采用12寸晶圓制造工藝。同時,基于成本考慮,部分功率器件、模擬芯片和CIS芯片也不斷轉(zhuǎn)向12英寸晶圓制造工藝。12英寸產(chǎn)能是全球晶圓廠擴產(chǎn)的主力方向。根據(jù)相關數(shù)據(jù),2025—2027年,全球12英寸晶圓廠設備支出預計將達到創(chuàng)紀錄的4,000億美元。其中2025年將首次突破1,000億美元,達到1,232億美元。

另一方面新產(chǎn)品新技術催生12英寸硅片更多消耗。以人工智能催生下目前供不應求的高帶寬內(nèi)存(HBM)產(chǎn)品為例,由于生產(chǎn)良率、堆疊工藝復雜度以及更大的芯片尺寸,同等存儲容量的HBM對12英寸硅片的需求量是目前主流DRAM產(chǎn)品的3倍。此外,隨著NANDFlash堆疊層數(shù)提升至200層、300層,甚至400層,按目前業(yè)內(nèi)技術路線共識,所有廠商均會切換至通過2片晶圓鍵合制作1個NANDFlash完整晶圓的工藝,相當于12英寸硅片需求翻倍。

三、全球12英寸硅片市場呈現(xiàn)前五大廠商寡頭壟斷格局,國產(chǎn)供應商短期仍需成長

由于12英寸硅片行業(yè)具有技術難度高、客戶認證周期長等特點,目前在全球市場上,日本信越化學、日本SUMCO等因率先掌握先進技術和具有產(chǎn)能優(yōu)勢占據(jù)著絕大部分的全球市場份額,且已形成良好的規(guī)模效應,在技術、價格、產(chǎn)品豐富度等方面具有很強的競爭力。而我國大陸企業(yè)起步晚、技術積累較少,整體規(guī)模偏小,后發(fā)劣勢短期內(nèi)無法改變,面臨較強的市場競爭。

12英寸硅片行業(yè)壁壘

行業(yè)壁壘 相關情況
技術壁壘 電子級硅片對于原子排列缺陷、幾何形貌、電阻率、表面潔凈度等核心指標有著苛刻要求。芯片制造工藝對硅片缺陷尺寸與缺陷密度容忍度極低,技術節(jié)點越先進,特征尺寸越小,對上述指標的控制越嚴格,技術壁壘越高。同時,全球前五大廠商已提前布局硅片制造領域的專利,形成較強的專利壁壘,對后續(xù)進入者帶來一定的挑戰(zhàn)。
設備壁壘 12英寸硅片的核心設備是拉晶設備。目前國際主流廠商或自主研發(fā)制造,或者購買第三方的拉晶設備供應商產(chǎn)品,并對與設備商聯(lián)合研發(fā)的IP和Know-How簽有嚴格的技術保密協(xié)議,其他廠商無法直接購買具有國際友商知識產(chǎn)權的設備。即使采購第三方拉晶設備,也需硅片廠商自主設計所匹配的熱場、石英坩堝和磁場等核心部件,形成自身的IP和KnowHow,方能保證晶體品質(zhì)。
認證壁壘 根據(jù)行業(yè)慣例,晶圓廠在引入新供應商時,會在審查通過供應商的生產(chǎn)資質(zhì)、技術實力、生產(chǎn)能力等條件后,要求半導體硅片供應商先行提供測試片進行試生產(chǎn)認證(周期為3-6個月),待測試片認證通過后,然后進一步開展正片驗證(周期為9個月-1年),期間至少需要1-2年周期(價格更高的高端正片的認證周期更長)。再考慮前期工廠建設、設備交付和調(diào)試以及工藝研發(fā)所耗周期,時間成本驚人。
資金和產(chǎn)能壁壘 12英寸硅片制造業(yè)務在半導體產(chǎn)業(yè)鏈中單位產(chǎn)能投資強度僅次于邏輯及存儲晶圓廠。例如西安奕材第一工廠(50萬片/月產(chǎn)能)總投資額高達110億元,80%為設備支出,每10萬片/月產(chǎn)能投入約需20億元。
人才壁壘 12英寸硅片的研發(fā)和生產(chǎn)過程復雜,涉及機械、化學、材料等多學科領域交叉,故需要具備綜合專業(yè)知識和豐富生產(chǎn)經(jīng)驗的復合型人才。尤其是國內(nèi)缺乏具有產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗的管理和技術人才,對后續(xù)進入者形成了較大的阻礙。

資料來源:公開資料,觀研天下整理

1、全球市場:形成全球前五大廠商寡頭競爭供給格局

當下全球12英寸硅片市場已形成全球前五大廠商寡頭競爭的供給格局。根據(jù)相關數(shù)據(jù)統(tǒng)計,考慮目前國內(nèi)外12英寸硅片廠商達產(chǎn)產(chǎn)能規(guī)模,全球前五大半導體硅片廠商12英寸硅片產(chǎn)能占比仍高達80%,出貨量占比預計高達85%,尤其是前兩大日本廠商,約占據(jù)全球12英寸硅片產(chǎn)能和出貨量的50%。

假設全球前五大廠商12英寸硅片產(chǎn)能與2023年末一致。截至2024年三季度末全球12英寸硅片產(chǎn)能估計為950萬片/月,約80%被日本信越化學、日本SUMCO等全球前五大廠商占據(jù)。

全球主要廠商12英寸硅片產(chǎn)能及其占比情況

公司

國家或地區(qū)

截至2024年三季度末投產(chǎn)產(chǎn)能(萬片/月)

截至2024年三季度末全球產(chǎn)能占比

信越化學

日本

230

24.21%

SUMCO

日本

210

22.11%

環(huán)球晶圓

中國臺灣

三家合計約300

三家合計約32%

德國世創(chuàng)

德國

SKSiltron

韓國

上海新昇

中國大陸

65

6.84%

中環(huán)領先

中國大陸

50

5.26%

立昂微

中國大陸

35

3.68%

中欣晶圓

中國大陸

30

3.16%

山東有研艾斯

中國大陸

20

2.11%

上海超硅

中國大陸

10

1.05%

合計

950

100.0%

資料來源:西安奕材招股說明書,觀研天下整理

2、國內(nèi)市場:國產(chǎn)化率低,短期仍需成長

由于本土廠商技術研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化起步較晚,我國12英寸硅片制造基礎相對薄弱,大部分仍依賴進口,例如制造所需的設備、材料和耗材主要向日本、韓國、歐洲和美國等發(fā)達國家進口,國產(chǎn)化率極低。在目前全球貿(mào)易摩擦加劇的背景下,國產(chǎn)供應商短期仍需成長,從而對國內(nèi)12英寸硅片廠商的供應鏈安全產(chǎn)生制約。目前成規(guī)模國內(nèi)廠商有上海新昇、中環(huán)領先、立昂微、中欣晶圓、山東有研艾斯、西安奕材7家,各自12英寸硅片產(chǎn)能現(xiàn)狀如下:

目前國內(nèi)12英寸硅片主要廠商產(chǎn)能情況

公司名稱 現(xiàn)有產(chǎn)能(萬片/月) 國內(nèi)產(chǎn)能占比
上海新昇 50 23.81%
中環(huán)領先 35 16.67%
立昂微 30 14.29%
中欣晶圓 20 9.52%
上海超硅 未披露 未披露
山東有研艾斯 10 4.76%
西安奕材 65 30.95%
合計 210 100.00%

資料來源:西安奕材招股說明書,觀研天下整理

當前我國12英寸硅片供需結(jié)構矛盾嚴重影響著我國半導體產(chǎn)業(yè)鏈的供應鏈安全。預計隨著國際貿(mào)易摩擦加劇,國內(nèi)尤其是內(nèi)資晶圓廠客戶對國產(chǎn)12英寸硅片廠商合作態(tài)度日益開放,甚至是必選項,12英寸硅片國產(chǎn)化率提升將成為長期趨勢。(WW)

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