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【報告大綱】 第一章濺射靶材產業(yè)相關概述 第一節(jié)濺射靶材闡述 一、磁控濺射原理 二、磁控濺射鍍膜靶材 第二節(jié)高純高密度建設
【報告大綱】 第一章2015-2018年中國濺射靶材行業(yè)總概 第一節(jié)2015-2018年中國濺射靶材行業(yè)發(fā)展概述 第二節(jié)2015-2018年中國濺射
隨著我國經濟的不斷發(fā)展、人們生活水平的不斷提高，人們的消費觀念和消費水平也有了很大的轉變與提
濺射靶材的制備技術方法按生產工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類。在靶材制備過程中，除嚴格控制材料純度
薄膜制備技術主要包括物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。PVD技術指在真空條
超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和
濺射靶材是目前市場應用量最大的PVD鍍膜材料，下游應用領域廣泛，如平板顯示器、半導體、太陽能電池、光磁
超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和
濺射靶材是目前市場應用量最大的PVD鍍膜材料，下游應用領域廣泛，如平板顯示器、半導體、太陽能電池、光磁
濺射靶材的制備技術方法按生產工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類。在靶材制備過程中，除嚴格控制材料純度
薄膜制備技術主要包括物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。PVD技術指在真空條件下采
根據(jù)統(tǒng)計，2015年全球半導體材料銷售額為435億美元，其中晶圓制造材料銷售額為242億美元，封裝材料為1
化學純度是影響薄膜材料性能的關鍵因素，高純金屬原材料是靶材生產制造的基矗高純金屬提純分為化學提純和物理提
